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IMPRESSUM
Unsere Produkte schaffen Zukunft

Chemisch Nickel (Auswahl)

HESSONIC HP-W

  • innovatives hochphosphorhaltiges chemisch Nickel-Verfahren
  • sehr stabile Arbeitsweise über einen breiten Arbeitsbereich
  • verbesserte Oberflächeneigenschaften durch den Einbau von Wolfram

HESSONIC PN 2000  

  • chemisch Vornickelverfahren 
  • arbeitet bei 35 °C 
  • sehr stabile Arbeitsweise 
  • sehr gute Haftungseigenschaften 
  • besonders gut geeignet bei hohem Produktionsanteil an Aluminium  

HESSONIC EN-4   

  • 5 - 9 % Phosphoreinbau 
  • nur eine Ansatzlösung 
  • blei- und kadmiumfrei 
  • entspricht den Standards MIL-C-26074D und AMS 2424  

HESSONIC HP-9 

  • ≥ 10  % Phosphoreinbau 
  • die erzeugten Schichten sind RoHS-, WEEE-, ELV-konform 
  • Verfahren für korrosionsbeständige Schichten 
  • mit sehr guter Badstabilität 
  • blei- und kadmiumfrei    
  • auch ammoniumfrei erhältlich
  • Lebensmittelunbedenklichkeitserklärung liegt vor

HESSONIC HP-10   

  • ≥ 10  % Phosphoreinbau 
  • die erzeugten Schichten sind RoHS-, WEEE-, ELV-konform 
  • Verfahren für korrosionsbeständige Schichten 
  • mit sehr guter Badstabilität  
  • auch ammoniumfrei erhältlich
  • Lebensmittelunbedenklichkeitserklärung liegt vor

 

Die neben stehende Tabelle liefert eine Übersicht zu technischen Datei der chemisch Nickel-Reihe. Um sie zu vergrößern, einfach draufklicken.

 

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